北方华创发布第三代12英寸全石英立式氮化硅LPCVD设备

发布时间:2026-08-05

近日,世界杯官网-(中国)官方网站所属北方华创高端装备产品矩阵再度扩容,正式推出第三代12英寸全石英立式氮化硅低压化学气相沉积(LPCVD)设备SICRIUS SN302D Ⅱ。

SICRIUS SN302D Ⅱ产品外观

SICRIUS SN302D Ⅱ基于全石英腔体架构,从根源上切断金属污染源,显著提升工艺性能。该设备通过在线热场仿真自主演算工艺温控曲线,精确调节硅片表面的反应温度,摆脱人工经验调参短板,从而保证工艺的一致性与稳定性。设备广泛适配先进逻辑、存储、功率器件及第三代半导体、先进封装、硅光集成等多元应用场景,精准覆盖不同技术节点的量产需求,进一步完善高端氮化硅沉积设备布局,为薄膜工艺的演进提供全新的硬件范式。

随着国内12英寸晶圆制造产能快速扩充,氮化硅工艺需求大幅攀升。SICRIUS SN302D Ⅱ精准匹配市场需求,强力助推北方华创深度切入存储、先进逻辑、硅光集成、高端传感器等高景气赛道,系统性提升北方华创立式沉积装备在国际产业版图中的竞争力。目前,北方华创已构建涵盖氧化、退火、低压化学气相沉积、等离子体增强原子层沉积等核心工艺的全品类立式炉量产平台。

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